ナノめっき研究所（Nano Plating Laboratory）
代表者：新宮原 正三（Shoso Shingubara）
所在地：大阪府池田市渋谷1丁目１２－５
会社名：ナノめっき研究所
設立：2026年
事業の概要：実装基板や半導体集積回路（LSI）の微細配線や微細構造への低抵抗金属の無電解及び電解めっき技術。また、Al陽極酸化技術によるナノ構造自己組織形成技術。などに関するコンサルタント、アドバイザーなどを行います。また、前述の技術分野に関する講演、講習会開催、技術普及活動、などを行います。
ナノめっき技術の応用例
・無電解銅めっきによる微細ホールへのボトムアップ堆積、無電解Ruめっき技術
- Co合金バリアメタルの無電解めっきによる堆積（TSV対応）
- 陽極酸化アルミナを用いたナノワイヤの高密度形成
- CuSnナノツリー